產品介紹：PM-III雙真空艙等離子處理系統
高產出等離子處理系統

PM-III雙真空艙等離子處理系統是PM-II工業等離子體刻蝕處理系統容量的兩倍， 但系統占地面積較小。 如果需要高產量，該PM-III雙真空艙等離子處理系統配備雙真空艙室，每個真空艙室配備24套處理支架，雙真空艙可以通行運行，或是單獨工作。PM-III雙真空艙等離子處理系統基于PM-II工業等離子體刻蝕處理系統建造。

PM-III雙真空艙等離子處理系統縱覽
鋁制艙體可容納較大的等離子處理材料體積，我們的標準配置具有少6或多達24個等離子處理支架，每款支架規格61cm X  46cm。

氧氣服務真空泵和增壓器配備有兩點吹掃系統，盡量減少腐蝕性副產品產品在其中形成，從而延長了使用壽命，同時降低了維護成本。

PM-III雙真空艙等離子處理系統特點
兩個巨大的全鋁真空艙室容納一個寬大等離子處理表面，M-III雙真空艙等離子處理系統標準配置24套等離子處理支架位于每個真空艙內。 每個等離子處理支架可使用等離子清洗區高達61cm X 46cm。

等離子處理板材，無論大小，PTFE，聚酰胺，軟硬結合電路，你會發現所有這些材料均被均勻地蝕刻，等離子處理完畢以備下一個生產工藝步驟使用。

PM-III雙真空艙等離子處理系統產品規格

標準PM-III雙真空艙等離子處理系統特點
等離子處理支架：6、8、12、16、24套水平“支架，每套支架規格61cm X  46cm，間距3.8cm
射頻電源：1250~5000瓦@13.56MHz射頻電源，自動匹配網絡；
真空艙靜電屏蔽，促進??蝕刻均勻性；
工藝過程溫度控制：677攝氏度~1649攝氏度，避免過溫循環；
工藝氣體控制：2套0-2000 CC /分鐘 質量流量控制器 （MFC）；
氣壓監控：低氣壓工藝氣體機吹掃氣體報警器；
真空監測系統：MKS電容式真空計0-10托；
控制器系統：微處理器控制系統/觸摸屏界面；多（多3階段）菜單存儲功能；
真空泵浦系統：愛德華茲（Edwards）氧氣服務真空泵 ，配備愛德華茲Edwards）羅茨式增壓器鼓風機； 3微米真空泵油過濾芯，2點自動氮氣N2吹掃； 真空泵排氣油霧凝聚式過濾器

PM-III雙真空艙等離子處理系統其它可選功能
基于Windows的計算機控制系統/觸摸屏接口
數據記錄、、事件查看和打印
信號燈塔
愛德華茲（Edwards）GV80干式真空泵
MKS真空節氣門控制器
多達4套質量流量控制器
工藝控制氣體轉向矩陣，5路工藝氣體輸入切換矩陣控制
可控N2(氮氣)真空艙吹掃流量
油霧分離器
定制電極尺寸和設置

PM-III雙真空艙等離子處理系統可選配套設備
冷卻水再循環閉環
煙氣洗滌塔填料床
無熱壓縮空氣干燥機（吹掃氣體發生器）

PM-III雙真空艙等離子處理系統規格
雙真空艙等離子處理系統外部尺寸：305cm X 201cm X 114cm
真空泵外部尺寸： 41cm X  76cm X43cm

PM-III雙真空艙等離子處理系統設備外部安裝要求
電源：220/1/50
壓縮空氣:0.55~0.70 MPa，14升/分鐘
系統環境溫度：29攝氏度
工藝氣體：0.17~0.21MPa,
射頻電源冷卻水源：7.5升/分鐘流量

如果您對該雙真空艙等離子處理系統興趣，請隨時聯系我們。

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