產品介紹：P-10臺式等離子蝕刻系統 / 緊湊型等離子體刻蝕機

配備真空泵的P-10是一款成套臺式等離子蝕刻系統，因其可靠的設計、較低的價位，使其成為滿足中小企業、醫學實驗室和研發機構的一款緊湊型等離子蝕刻設備。

P-10臺式等離子蝕刻系統具有三個獨特的等離子工作模式：
1）反應離子蝕刻（RIE），
2）普通的等離子清洗（Plasma Cleaning）和等離子體刻蝕(Plasma Etching)
3）P-10具有多功能等離子工藝配置，一臺具備各向異性（anisotropic）和各向同性(isotropic）等離子刻蝕處理的系統。 并且配有可拆卸的托盤設置。

P-10臺式等離子蝕刻系統 縱覽

全鋁合金材質真空艙可以容納超過1500平方厘米的處理表面積，及配備三層處理托盤支架。 內置框架采用了簡潔的設計，噴涂工業粉末涂層，以保護等離子處理環境免于污染。

當P-10臺式等離子蝕刻系統在反應離子蝕刻（RIE）模式下工作時，專門設計的電極用于定向等離子體處理，即起到垂直向下的蝕刻效果。 此種等離子工藝主要是用于蝕刻微孔或清洗化學品無法達到的空間，因為液體的流動往往只限于在這些小的空間。

臺式等離子蝕刻系統應用范圍包括醫療設備，太陽能電池，印刷電路板（PCB），連接器，MEMS，納米技術，晶圓級封裝，以及許多其他相關的半導體工藝。

P-10臺式等離子蝕刻系統特點

采用臺式等離子蝕刻系統等離子清洗提高了任何材料表面處理的均勻性，減少或消除不必要且昂貴的化學試劑廢物排放。簡單易用，直觀的觸摸屏界面提供等離子操作界面，控制等離子刻蝕的各個方面，確保等離子工藝的重復性。 我們可以提供定制真空艙，電極配置，滿足被蝕刻工件或工藝需要的定制平板電極，RIE（反應離子刻蝕）和等離子處理過程的溫度控制。

P-10臺式等離子蝕刻系統技術規格

P-10臺式等離子蝕刻系統配置
真空艙體材質：全鋁合金
電極設置：3套規格為 23cmX 41cm 電極，每套電極板間隔7.6cm
射頻電源：600瓦@100MHz射頻電源;
工藝氣體控制：單套 O-50cc質量流量控制器
真空監測系統：皮拉尼真空計0-1托
控制器系統：微處理器系統，配備觸摸屏界面
真空泵浦系統：8CFM氧氣服務真空泵系統，配備油霧分離器

P-10臺式等離子蝕刻系統可選配置：
600瓦@13.56MHz射頻電源;
真空艙靜電屏蔽
工藝溫度控制
定制電極配置
RIE（反應離子刻蝕電極）
真空泵氮或CDA吹洗

P-10臺式等離子蝕刻系統規格
P-10臺式等離子蝕刻系統：43cm X 71cm X 76cm  凈重：70公斤
P-10臺式等離子蝕刻系統配套真空泵：15cm X 46cm X 23cm 凈重：31公斤

P-10臺式等離子蝕刻系統設備外部安裝要求
電源：380/3/50 Hz
壓縮空氣：0.55~0.70 MPa，14升/分鐘
工藝氣體壓力：0.1MPa,
系統環境溫度：29攝氏度

如果您對該臺式等離子蝕刻系統感興趣，請隨時聯系我們。

天域實驗器材營銷服務中心
(美國GIK等離子系統授權經銷商)